2010.2.10

次世代パワー半導体向け新技術を開発

nano tech 2010にNEDOと共同展示

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NEDO（独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構）から委託された「超ハイブリッド技術開発」プロジェクトに参加しています。このたび、当プロジェクトで取り組んできた次世代パワー半導体向け新素材の研究開発成果について、2月17日（水）より東京ビッグサイトで開催される「nano tech2010　国際ナノテクノロジー　総合展・技術会議」の、NEDOブース内にて発表する運びとなりました。

当社のケイ素化学技術を駆使した当研究開発を通じ、次世代パワー半導体の実用化に貢献する優れた特性を持つ実装用材料の基盤技術開発に成功しました。今回開発した技術を応用し製品化をすすめることで、次世代パワー半導体の省エネ化、小型化、製造コスト削減などに寄与します。

【展示内容】
① 次世代パワー半導体向け超耐熱性・高熱伝導性ポリシロキサン材料
ポリシロキサンと機能性無機微粒子を制御して複合化させる超ハイブリッド技術により、「加工のしやすさ」と、250度での連続使用を可能にする「耐熱性の高さ」という相反機能を解消し、新しい封止材料の基礎技術の開発に成功しました。

② 熱伝導性ポリシロキサン用高性能無機微粒子の開発
東京大学大学院新領域創成科学研究科、大島研究室と共同研究をすすめ、超臨界流体技術を応用し、安価で入手可能な原料から機能性微粒子を合成する手法を開発しました。微粒子のポリシロキサンへの配合が容易になり、パワー半導体の放熱材に適した新素材の開発に役立ちます。

【 nano tech2010　国際ナノテクノロジー　総合展・技術会議　概要 】

日　時	2010年2月17日（水）～19日（金）　　10:00 - 17:00
会　場	東京ビッグサイト東4・5・6ホール＆会議棟
出展ブース	N-01

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