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パターン形成用シリコーン


Dow Corning(R)WL-5000 series Photopatternable Spin-On Siliconesは、各種のマイクロエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス用途向けに低温キュアで低応力・透明なシリコーンパターンが得られます。

右のリンクからWafer-Level Packageに関する記事を参照できます。

詳しいパターン形成用シリコーンのお問い合わせは、こちらまで。

パターナブルシリコーン材料 へのリンク
製品タイプ: シリコーン皮膜
硬化前性状: 透明溶液
特性:  低応力、低温キュア可能、ネガ型、熱安定性が高く厚膜、低収縮、耐湿性、高透明で側壁スロープ付で1.3以下のアスペクト比でパターニング可能。リワーク可能。
主な用途: ウエファの表面および裏面の保護層、応力緩和層用途;再配置層、ソルダーマスク、ネガ型フォトレジスト接着層、犠牲膜
Technical DataTutorial

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