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Dow Corning® CVD
プリカーサーは、PECVDで成膜する多用途で、高性能なCVD材料です。これらの材料は銅デュアルダマシン配線およびアルミによる配線プロセスに適合します。プリカーサーは無色、非腐食性、非自然発火性の有機ケイ素材料で、半導体業界の安全や純度要求を満たします。
Z3MS, Z4MS, ZTOMCATS と Z2DM
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| 製品タイプ: Multifunctional CVD Precursor |
| 硬化前性状: Silicon Source Specialty Gas |
| 特性: High purity; Semiconductor grade |
| 主な用途: Formation of silicon carbide, silicon oxycarbide, silicon dioxide, or
silicon nitride thin film dielectrics. Typical film applications include:
copper diffusion barrier, etch stop, hard mask, low-k IMD, gap fill, and
passivation. |
| Technical
Data | Download Data Sheet PDF | Download Product Brochure |
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| 製品タイプ: Multifunctional CVD Precursor |
| 硬化前性状: Silicon Source Specialty Liquid |
| 特性: High purity; Semiconductor grade |
| 主な用途: Formation of silicon carbide, silicon oxycarbide, or silicon nitride thin
film dielectrics. Typical film applications include: copper diffusion
barrier, etch stop, hard mask, interlevel dielectric, and passivation. |
| Technical
Data | Download Data Sheet PDF | |
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| 製品タイプ: Multifunctional CVD Precursor |
| 硬化前性状: Silicon Source Specialty Liquid |
| 特性: High purity; semiconductor grade |
| 主な用途: Formation of silicon oxycarbide, and silicon dioxide thin film dielectrics.
Typical film applications include: interlevel dielectric. |
| Technical
Data | Download Data Sheet PDF | |
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| 製品タイプ: Multifunctional CVD Precursor |
| 硬化前性状: Silicon Source Specialty Liquid |
| 特性: High purity; semiconductor grade |
| 主な用途: Formation of silicon oxycarbide thin film dielectrics. Typical film
applications include: interlevel dielectric. |
| Technical
Data | Download Data Sheet PDF | |
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